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nanoIR3 融合原子力显微镜与光热 AFM-IR 纳米红外技术,突破红外衍射极限,达成 10nm 级别空间分辨率化学成像,同步采集样品形貌、化学组分、力学与热学参数,共振增强模式可检测单分子层样品,多用于纳米界面表征、半导体微观分析、高分子材料检测,符合科研平台高精度表征使用标准。
参数详情
红外光谱范围:QCL 激光 800–2700cm⁻¹,OPO 激光 2710–3600cm⁻¹
光谱分辨率:QCL 优于 1cm⁻¹,OPO 优于 4cm⁻¹
化学成像分辨率:≤10nm
AFM 扫描范围:XY 50μm×50μm,Z 轴≥6μm
最大样品尺寸:直径 25mm
检测灵敏度:可识别单分子有机薄膜层
单点光谱耗时:<3s
内置模式:共振增强 AFM-IR、敲击式 AFM-IR、高速化学成像
选配温控区间:-20℃~120℃原位冷热台、液相测试模块
半导体行业:光刻胶组分检测、芯片纳米污染物排查、晶圆界面材料表征、二维半导体化学成像
高分子材料:聚合物共混相分布检测、复合材料界面剖析、涂层分层分析、纳米纤维组分表征
生物科研:细胞膜局部化学分析、生物高分子界面检测、微生物纳米结构原位表征
新材料领域:二维材料氧化分布测试、纳米复合材质界面分析、脂质体微观化学成像
